發布時間: 2014年11月25日
繼北京、杭州、廣州、深圳、武漢、福州、廈門、成都、大連、濟南、南京等城市之后， 11月24日下午，由中國文字字體設計與研究中心主辦、湖南師范大學美術學院、中央美術學院與方正電子攜手承辦，湖南省設計家協會、設計長沙大力支持的【方正獎】中文字體設計大賽作品展正式走進長沙岳麓學區，包括第七屆“方正獎”中文字體設計大賽一、二、三等獎獲獎作品在內的歷屆大賽獲獎作品、方正字庫經典字體、珍貴手稿以及曾在“漢字二十四時”活動上亮相過的6位方正資深字體設計師的設計作品等200余件展品在此次展覽上亮相。
展覽開幕式上，方正字庫正式授權湖南師范大學美術學院加入“設計院校正版字體支持計劃”，向其免費贈送了方正字庫已發布的全部正版字庫軟件供教學使用。這也是全國第8家受益于方正電子“設計院校正版字體支持計劃”的院校，之前加入該計劃的院校有中央美術學院、清華大學美術學院、北京服裝學院、北京印刷學院、北京理工大學設計與藝術學院、北京大學藝術學院、南京藝術學院等7所院校。同時，方正電子與湖南師范大學、湖南大學、中央美術學院、廣州美術學院共同成立“中文字體創新設計聯合實驗室”，業界、學界攜手共推字體行業的發展。
在隨后舉辦的“字得其樂——字體控分享沙龍”上，方正電子字庫業務部開發部副部長仇寅分享了方正悠黑系列字體的設計思路與開發經驗。方正悠黑系列是方正電子推出的第二代屏顯字體，廣泛吸收了來自設計界、網絡媒體界、屏幕用戶群的意見和建議，在字體設計過程中采用了三大創新思路：遵循折中路線，汲取書寫精神，應對屏顯技術而設計。方正悠黑系列的推出豐富了人們在屏幕閱讀時代的字體選擇，給人們以更好的屏幕閱讀體驗和視覺享受，在“屏幕閱讀”快速發展的今天，其推出有著劃時代的意義。
此外，方正電子字庫業務部高級字體設計師汪文、湖南師范大學美術學院副院長李少波、湖南師范大學美術學院副院長季鐵等幾位專家，也相繼在論壇上與“字體控”們分享了他們對于字體設計與研究的心得體會。在論壇的互動環節中，主講專家與設計師之間的精彩問答，以及針對具體設計細節的討論令參與者們深感獲益匪淺。
字得其樂『字體控』分享沙龍以促進國內外設計師、設計院校老師、字體設計愛好者之間的交流為目標，致力于為海內外的中文字體設計者和研究者提供一個相互切磋和展示成果的平臺。繼長沙站之后，還將陸續走進國內其他知名院校，同時，將邀請更多設計院校加入方正字庫的正版字體支持計劃，在普及字庫知識產權保護的同時，助力字庫行業的人才培養，進而推動整體行業的發展。