第六届“方正奖” 中文字体设计大赛在京揭晓

由中央美术学院与北大方正电子有限公司联合主办的第六届“方正奖”中文计算机字体设计大赛日前在中央美院揭晓，59人获奖。来自中国、韩国、日本等国的设计专家、美院师生、设计界人士近300人到会并参加了主办方举办的“中国语境·中文字体设计与应用论坛”。据悉，所有获奖的字体设计作品都将在随后为期一周的“字景——第六届方正奖中文字体设计大赛作品展及邀请展”上展出。

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作为目前国内最高级别的中文字体设计比赛，本届大赛在延续往届固有板块“创意字体设计”外新添的“字体设计应用”竞赛单元，成为一大突破。大赛共收到来自全国各地及港澳台地区的参赛作品3257份，创历史新高。参赛作品的专业水平亦有很大突破，作品的成熟度提高了很多。而方正字库作为目前市场上使用最多的中文字库产品，本次大赛及论坛的举办无疑将促进其中文计算机字体设计的进一步发展创新。